内容导读：

　　Archer AIM高级套刻精度（Overlay）光学量测系统能为65nm及以下光刻提供工艺控制。该系统应用了一种新的grating-style技术，大大降低了亚100nm设计规则时传统方法测量带来的不确定性。该系统提供的数据能更精确地反映器件的Overlay性能，因此，可以实现更严格的Overlay控制，改善分步重复曝光机的套刻精确度。
　　KLA-Tencor Corp  www.kla-tencor.com

标签：

来源:半导体国际 作者: 时间:2003/7/1 0:00:00