访问手机版页面
你的位置:老古开发网 > 其他 > 正文  
SIGMA-C推出可防止65nm以下掩膜故障的DFM工具
内容导读:

SIGMA-C软件公司推出首个微印刷仿真/图像验证工具,可将电子设计转移到印制晶圆上,以防止65nm下的掩膜故障。

该工具的仿真范围比传统印刷大200倍。它可在芯片设计过程中识别热点,芯片大小为20×20μm。SOLID+有现货提供,售价140,000美元,此外还提供其它SIGMA-C模块,如3D掩膜和3D晶圆。

标签:
来源:电子工程世界 作者: 时间:2006/1/19 0:00:00
相关阅读
推荐阅读
阅读排行
最近更新
商品推荐