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美国成在华第2大专利申请国 仅次于日本
内容导读:
国家知识产权局副局长李玉光昨日在“中美经贸论坛”上说,2005年美国在中国的专利申请达20395件,其增长为30%,成为继日本之后在中国的第二大专利申请国。

  “这说明美国的经贸界、企业界对中国的知识产权制度,特别是专利制度的建立和实施以及保护具有信心。”李玉光指出,随着中国加入世贸组织,国内市场逐步开放,中美两国越来越意识到知识产权对两国经贸发展所带来的影响。但他同时说:“两国需要认识到双方在知识产权制度上的差异和历史发展以及社会文化的不同,给予相互的沟通和理解。”(北京现代商报)  
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来源:中电网 作者: 时间:2006/2/16 0:00:00
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