内容导读：

朗讯科技(Lucent)公司贝尔实验室最近被美国国防先进研究项目局选中，开发无掩膜光刻技术。

朗讯将设计、开发并演示使无掩膜光刻成为可能的基于微机电系统(MEMS)的空间光调制器(SLM)。朗讯目前与Coming Tropel公司、杜邦掩膜公司及Lincoln实验室合作，同时还与ASML就此保持紧密的合作关系。这项为期四年的合同来自Space and Naval Warfare  Systems  Center SanDiego，价值950万美元。

由贝尔实验室开发的MEMS SLM技术包含独立性高的10倍的可移动微镜。这意味着下一代微电子加工中的光掩膜蚀刻系统特征尺寸能小至50nm。而美国新泽西纳米技术协会提供纳米技术研究和开发服务。该协会由朗讯科技贝尔实验室管理。

本文摘自《集成电路应用》

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来源:中电网 作者: 时间:2004/12/1 0:00:00