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亚舍利科技公司成功举办离子注入工艺课题研讨会

2004年5月17-18日，亚舍利科技公司Axcelis(NASDAQ：ACLS)在中国上海浦东金茂君悦大酒店成功举办了2004年“离子注入工艺课题研讨会”，来自亚舍利科技公司的专家与到会的国内Fab厂工程师就“Ion lmplantation Applications for CMOS Technology“Implanter Fundamentals”“Rapid ThermalProcessing”等离子注入方面的技术及在实际生产中常见的问题进行了探讨，此次研讨会取得了巨大的成功。

本文摘自《电子工业专用设备》

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来源:中电网 作者: 时间:2004/7/6 0:00:00