IEEE批准ALF及综合标准促进库/EDA工具互用
内容导读:
为库和EDA工具能实现更大的互用性铺平道路,IEEE批准Accellera的高级库格式(ALF)及Verilog和VHDL子集成为新的标准。同时,IEEE 1076-2002 VHDL在该语言上添加了新特性。
被批准为IEEE 1603-2003的ALF为设计库提供标准语言和语义表述。它支持RTL到GDSII的功能描述、电性能及布局视图,适于从单元到复杂分层模块的库。据称ALF能让芯片设计师对库的控制能力更强。
IEEE 1603的标准化是“对纳米设计的一个有力推动,” Accellera主席Dennis Brophy表示。“IEEE标准制定了使工具供应商和数据创建公司有能力达到的稳定目标。它发出了一个信号,即ALF将准备进入主流开发。”
本文摘自《半导体技术》
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来源:中电网 作者: 时间:2003/11/25 0:00:00