内容导读：

CVS系列高温垂直扩散炉适用于离子注入后碳化硅器件的高温退火工艺。独特的炉管及加热系统的设计能够允许设备达到1850℃的高温。

　　这套高温退火系统可以一次处理50片碳化硅基片，并兼容包括2”，3”，4”在内的各种不同尺寸的基片。基于这套设备的退火工艺能够实现高杂质激活率、低电阻以及低材料表面损伤等方面的优异表现。设备具有表现稳定，净化间占地面积小和投资成本低的优点。
centrotherm thermal solutions GmbH & Co. KGwww.centrotherm.de

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来源:半导体国际 作者: 时间:2006/9/9 0:00:00