内容导读：

BAKER提供的ALEG-380能够有效地去除大块光刻胶、干法去胶/刻蚀后的严重交联残留物以及侧壁高分子聚合物，进而帮助半导体厂家提高产品合格率和降低生产成本。该化学试剂可以为带有复杂金属结构的器件提供抗电流侵蚀的保护。产品的清洗时间和工作温度的选择范围较大，在5-20分钟内均可满足需求。一般而言，产品的在水槽中的使用寿命>24小时。
Mallinckrodt Baker Inc.www.jtbaker.com

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来源:半导体国际 作者: 时间:2006/9/9 0:00:00