Mentor Graphics近日于新竹举办了一场EDA技术论坛，并于论坛中针对科制造设计(DFM)、功能性验证、系统设计、IC纳米设计，以及电子系统层级设计(ESL)五大主题，介绍了其先进的EDA设计工具。此外适逢Mentor Graphics成立25周年，该公司执行长兼主席Walden Rhines亦特別到台，正式宣布Mentor Graphics在台成立EDA研发中心。

       Mentor Graphics 表示，IC设计的复杂度日益提升，半导体制程技术也从90纳米跨入65纳米，这使得EDA产业必须开发具备高效能及高精准度的新技术，让设计人员在设计、验证和测试程序的每一个阶段都能将制造列入考虑。该公司可提供的解决方案包括ESL的各种实际问题、功能验证、类比及混合信号设计与验证、DFM和系统设计等。

       此外Mentor Graphics表示，看好台湾晶圆代工厂的先进制程技术与半导体产业的成熟发展，该公司已于近期在台湾成立EDA研发中心，就近提供客户支援;该公司目前亦与台积电(TSMC)密切合作，提供整合式DFM解决方案，协助IC设计工程师设计出效能优异、可靠度佳并具有高经济效益的IC产品。