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红外反射测试系统IR3000用于在130纳米节点及更先进技术中测量绝缘材料和刻蚀结构的膜厚，设备具有高产能、非接触、无破坏性等特点。同时，设备能够测量动态随机存储器和功率器件中的高深宽比的硅刻蚀图形。
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来源:半导体国际 作者: 时间:2006/8/8 0:00:00