内容导读：

分子气相淀积系统MVD100能够加速研发适用于纳米尺寸器件的下一代薄膜涂层。依靠改善传统化学废弃物的排放技术，设备克服了湿法浸没工艺的局限和不足，提高了整体的表现。器件置于设备的真空环境中进行气相淀积，剩余污染物随后被移除，其表面允许清洗。MVD100优化了设计，能够在保持薄膜物理、化学性能的前提下，进一步减少颗粒污染和降低表面粗糙度。
 www.appliedmst.com

标签：

来源:半导体国际 作者: 时间:2006/8/8 0:00:00