内容导读：

光刻模拟和设计检测系统Tachyon RDI仅需数小时时间就能够对交付生产前的分辨率增强技术RET/光学临近修正技术OPC进行检测。系统使用生产中的实际测量数据构建高精度的掩模版、扫描光刻设备以及光刻胶工艺模型。有效光刻胶模型、标量和向量模型、随机扫描光刻模型和128位光学模型使用户获得高精度的模拟结果。
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来源:半导体国际 作者: 时间:2006/8/8 0:00:00