据EE Times网站消息，美光半导体(Micron Technology Inc.)正在尝试将两个存储器生产厂转变成为图像处理芯片生产厂已实现CMOS传感器生产能力的提高。

该公司表示，此举意在进一步提高8英寸生产线的有效利用率，存储器已经发展到90nm-65nm的生产工艺，而传感器刚刚进入130nm-110nm工艺。美光半导体已经拥有位于美国Boise、Idaho和意大利Avezzano的CMOS传感器生产线，现在正将美国Boise的另一条生产线和日本Nishiwaki的一条生产线转型为传感器生产，以上四条生产线都拥有每月5万圆片的产能。其中日本Nishiwaki生产的传感器本月将进入测试阶段。

其产能的扩张源于该公司对于CMOS传感器市场的增长预期，该公司预期该市场将从今年的8亿增长到2007年的10亿，在2010年将达到17亿。

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http://www.eetimes.com/news/semi/showArticle.jhtml?articleID=188101706