据EE times网站报道，一个进行CMOS 32nm和22nm制程工艺研究的欧洲合作研究组织获得了2500万欧元(约3200万美元)的资助，这笔经费是2004年开始的NanoCMOS项目的延续。

欧洲委员会对于PullNano项目进行了正面的评价，该项目包含35各参与者。根据NanoCMOS网站报道：新项目于2006年4月开始，将历时30个月;NanoCMOS项目将于2006年6月底结束，其评审会将于7月4日-5日在IMEC举行。

NanoCMOS项目在45nm工艺的先进材料、前端制程、器件和系统级结构、后端制程、特性表征与模拟、设备和培训取得了一系列的成果。PullNano项目的目标是在二年半的时间里进行32nm和22nm工艺的相关研究。

参与NanoCMOS项目的公司包括ST Microelectronics、Philips、Infineon Technologies AG、Frescale Semiconductor Inc.、Ion Beam Services等等。在35个参与者的通力协作下，PullNano项目也将获得一些大学的支持。

相关链接（英文）：
http://www.eetimes.com/news/semi/showArticle.jhtml?articleID=188700609