台积电近日表示，公司率先推出的“芯片可制造性设计（Design for Manufacturing;DFM）”服务内容，芯片设计人员可藉由通过台积电验证过的设计工具，直接取得这些资料，进一步提升分析效率。

　　台积电指出，上述DFM资料统一格式系由台积电开发，期望芯片设计人员自不同公司DFM工具取得的资料格式，尝试与台积电工艺的资料格式相符;这些DFM工具包括微影工艺检查（Lithography Process Check）、化学机械研磨分析（Chemical Mechanical Polishing Analysis），以及关键区域分析（Critical Area Analysis）。

　　通过产业生态环境的规格整合及同步化，台积电所推出的DFM服务内容，将更可增加芯片设计人员使用DFM工具的便利性，也进一步提高进行DFM分析的作业及管理效率，这对客户在设计65纳米产品的时效性，将明显发挥经济效益。