据REED网站报道，全球半导体、复合半导体、纳米技术及其它相关市场提供先进半导体设备和工艺技术的供应商Aviza Technology日前宣布将其新一代单晶硅原子层沉积系统（Atomic Layer Deposition，ALD）Celsior(TM)发货至中国IC工厂中芯国际（SMIC）。这套Celsior系统将用于生产90-nm DRAM芯片。

Celsior开发在产品查验平台基础上，此项技术是Aviza公司与合并前的Trikon公司共同开发出的。这种平台软件已经应用在世界各Fab厂的化学气相沉积（CVD），物理气相沉积（PVD）及外延系统中。

Celsior另一个特征是具备新的制程腔，具有高生产量，低化学消耗以及扩展的工艺窗口，因此降低了生产成本。Celsior 符合ALD严密的工艺制程过程，能够满足300mm晶圆低于1%厚度均一性的要求。

ALD是半导体工业中增长飞快地设备系统。另据分析，ALD设备将逐渐替换化学气相淀积（CVD）淀积技术，成为业界主流