据Semiconductor Reporter网站报道，Brion公司日前宣布其Tachyon LMC光学修正（optical proximity correction，OPC）工具被Crolles2联盟采用，将用于量产65纳米工艺。

同时Brion还与Crolles2签下协议，开发用于45纳米器件的OPC工具。

Crolles2成员包括意法半导体，飞利浦半导体，以及飞思卡尔半导体等。这些公司已将Brion公司工具用于自动化65纳米工艺量产。

Brion与Crolles2的合作始于2005年4月，后者已从前者订购了Tachyon LMC和Tachyon RDI两种工具。

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httpwww.semireporter.compublic13378.cfm