据EE Times网站报道，Toppan Photomasks Inc.近期表示，公司计划增加其上海工厂生产能力，增加的产能将用于生产180nm IC光掩膜板，并增加其250nm及其以上光刻和检测能力。

Toppan Photomasks表示，本次扩大产能将增加净化室面积，增强制程、检测和修复能力，以适应中国电子市场的高速发展。净化室面积扩大将于2006年第三季度完成，第四季度实现产能增加。

Toppan Photomasks是日本Toppan Printing Co. Ltd.的子公司，本次扩能是自1996年成立以来的第四次产能扩大。

相关链接（英文）：
http://www.eetimes.com/news/semi/showArticle.jhtml?articleID=190301503