据Reed Electronics网站报道，NanoInk, Inc.与Seiko Instruments Inc.的子公司SII NanoTechnology Inc. (SIINT)近期签署了一项光掩膜板修复技术的专利协议。两家公司将合作，将NanoInk公司的Dip Pen Nanolithography(DPN)技术集成于SIINT光掩膜修复仪器和纳米加工平台中。

光掩膜板修复技术正面临着现阶段小缺陷不能被定位的挑战。两家公司均预期，随着工艺节点向65nm和45nm的发展，光掩膜板修复仅能通过NanoInk的DPN技术完成。

技术研发工作将同时在美国和日本进行，预计65%的客户将来自于亚洲，NanoInk表示SIINT将是销售和市场领域最好的合作伙伴。

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http://www.reed-electronics.com/semiconductor/articleXml/LN399048718.html