据Semiconductor Reporter网站报道，Cymer Inc.近期发布了其第一台应用于45nm浸入式光刻工艺的ArF激光器。

将于Semicon West展示的XLR 500i激光器基于Cymer公司的Ring技术开发，相对于前期的ArF产品，XLR 500i的功率稳定性提高了1.5倍，其所有权价格降低超过20%。

XLR系统相对于XL平台是一次光学进步，Cymer表示，全球已经安装了超过300套XL平台。

XLR系统是光刻工艺激光光源结构的最新技术革新，Cymer总裁Ed Brown表示，结合此项技术我们将进一步提高ArF激光器的性能，努力开发下一代具有更高性价比、应用于日常电子产品生产的新技术。

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http://www.semireporter.com/public/13658.cfm