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Entegris发布新型浸入式光刻圆片净化系统
内容导读:

据Semiconductor Reporter网站报道,Entegris Inc.近期宣布,公司将在近期举行的Semicon West展会上发布其液体透镜超纯净水(UPW)净化系统。

液体透镜是专门服务于浸入式光刻工艺的,该器件在光学透镜与圆片之间是超纯净水。如果水中含有微小杂质都将破坏圆片图形化结果,或者与光刻胶发生反应,或者污染透镜。

本套系统可以为液态透镜系统提供在适当温度和压强下最高级别的超纯净水。部分液态透镜系统已经交付几大客户用于测试和制程研发。Entegris表示,这些公司期待将先进的光刻制程工艺用于其新一代产品的生产。

相关链接(英文):
http://www.semireporter.com/public/13677.cfm

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来源:SEMI 作者: 时间:2006/8/1 0:00:00
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