FC-3100是在FC-3000基础上进一步优化改良的新一代300 mm硅片自动清洗机台。设备使用模块化设计提高了配置的灵活多样性,而且设备采用增强型机械传送装置,全新优化设计的硅片缓冲区以及硅片操作排续优化算法等技术从而使产能达到460 wph。系统具备了单腔室清洗,可用于双栅工艺的低温干燥技术,和能够精确测量磷酸/水浓度的磷酸浓度反馈系统等特色。
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