Integrated Wafer系统是一种用于对半导体加工过程进行原位监控的独特设备。这个系统包括集成的晶圆和带有热分析软件的OP-T-MAP。它能够对先进光刻系统中关键性的温度，从15到145℃，以±0.1℃的精度在各个阶段进行测量和绘图。当它模拟工艺晶圆通过设备时，会测量瞬态和稳态的温度。它的特点是：无线地、低成本设计，没有温度滞后，完全嵌入的传感器传递精确的无假象的温度数据，当与OP-T-MAP一道使用时，通过数据管理和可视化工具，使得对于设备的观测更容易。
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