AIMS fab 193 plus系列产品是通过模拟步进/扫描式光刻机来评估掩膜版在光刻机特定光学条件下表现的光学系统，不需要用晶圆印制图形或者进行光刻胶线宽的CD-SEM测量。利用这套系统,步进/扫描式光刻机的设备参数可以在系统覆盖的较大的范围内进行调整，同时，在不需要对晶圆进行图形印制的情况下，通过判断掩膜版在曝光工具上的表现能否达到预期效果，利用反馈的数据对掩膜版设计进行修改和优化，从而加速了下一代掩膜版的研发进程。该设备的工作波长是193 nm，装配有一个机械传送系统，和一个可供选择的SMIF系统。
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