Nexus 420离子源是专为提高公司下一代厚膜磁头生产用离子束刻蚀系统的性能而设计。它提供了高性能的3D均匀性和可重复性，降低了网格变化对最佳工艺性能的影响，在低能量下能够提高产量。他可在100－1500eV能量范围，对不同的晶圆和滑动刻蚀工艺中实现最大程度的控制。
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