据Semiconductor Reporter网站报道，随着CMP业务的持续增长，CMP耗材市场也达到新高。咨询公司Linx日前发表最新报告，2005年CMP耗材市场达11亿美金。其中9.75亿美金属于CMP浆料和磨盘市场，其余部分为CMP清洗器以及调节等。

据该咨询公司合伙人Mark Thirsk说，CMP浆料和磨盘市场将持续增长，2009年达到18亿美金。65nm-45nm铜互连技术的发展和广泛采用将成为CMP市场增长的最大驱动力。但CMP也将用于其它应用，比如隔离层、钨以及氧化层的抛光，浅沟隔离工艺以及多晶硅抛光等。

90纳米和130纳米在近几年内仍然是CMP耗材的主要市场。在磨料和磨盘市场上，罗门哈斯依然是主要供应商，占有41%的市场分额，Cabot Microelectronics占有28%的分额。而磨料市场的新进公司Cheil Industries等，已经在韩国打开市场。磨盘市场上PPG, Praxair, SKC在韩国以及Toray在日本都表现不错。

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