SEZ（瑟思）集团近日宣布，诚邀 Glenn Gale博士出任新创立部门－前段工艺过程 (FEOL) 清洗项目部副总裁职位 ，负责管理SEZ集团全球FEOL清洗制程工艺。在全球客户的范围内，指导公司FEOL清洗解决方案的引进和实施，集中关注围绕65-纳米和45-纳米技术标准的直接需求。Gale 博士将直接向集团先进制程工艺管理部负责制程工艺应用的高级副总裁Ernst Gaulhofer 汇报工作。
Gale是半导体表面处理和清洗技术的世界级专家，在加入SEZ之前，他担任东京电子美国公司（Tokyo Electron America）清洗系统业务部的首席技术专家，负责管理和指导公司的高级清洗技术。在TEL之前，Gale博士曾服务于半导体行业研究机构International SEMATECH 前端工艺部门表面处理项目经理，同时他也是国际半导体技术规划（ITRS）机构表面处理部门的综合发展专家
。在这之前的十年，Gale任职国际商用机器公司（IBM） ，曾担任湿式化学溅射和全程处理器的制造设备工程师，和硅晶圆清洗和蚀刻的制造工艺工程师职务。
Gale拥有美国纽约克拉克森大学（Clarkson University, Potsdam, N.Y.）机械工程和工业工程的学士学位和硕士学位和机械和航空工程博士学位，同时兼修化学专业。而且，Gale获得了很多高级别的荣誉，在美国注册专利超过十二项，发表论文无数。
SEZ集团首席运营官兼执行副总裁Kurt Lackenbucher 评论说：“为了始终如一地为全球客户提供世界一流水平的清洗技术解决方案，SEZ意识到，我们必须确保团队中拥有表面处理业界的世界级专家。”他进一步表示：“Glenn在这一行业的广泛造诣以及他在全球的声望，加上SEZ对每个新任命赋予的保持战略性和可操作的领导地位，使得博士当之无愧地成为驾御SEZ单晶圆FEOL清洗战略的理想人选。”
为了满足客户前段工艺过程（FEOL）的应用需求，同时确保沿袭单晶圆湿式技术的所有关键优点，通过与客户的紧密合作，SEZ公司已经准确定义出了客户对更为灵活的工艺方法的要求：缩短生产周期、更经济的使用化学试剂以及改善拥有成本。继SEZ引领整个行业的BEOL处理由批式处理衍变到单晶圆处理技术之后，目前正在所有技术标准范围内掀起FEOL领域的技术衍变，这一衍变将从客户需求最为强烈的65纳米和45纳米器件开始。
