内容导读：

    对65纳米制造和30纳米特征尺寸以上，SEMVision G2 家族检测、分析缺陷的设备其敏感度和检测能力已达到了每小时能检测1800个各类缺陷。这个系列由三套系统组成，包括新的SEMVision G2 HP工具，用以常规缺陷的检测和生产工艺流程的监控。新的SEMVision G2 Plus系统用以体积较大缺陷的检测和材料的分析。而最近引入的SEMVision G2 FIB系统则针对嵌入的缺陷的检测和电性失效分析。. Applied Materials Inc., Santa Clara, Calif., www.appliedmaterials.com

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来源:半导体国际 作者: 时间:2005/2/17 0:00:00