内容导读：

AP-1000 HTP系统不仅拥有标准AP-1000系统的可靠性和工艺品质，还具有获得专利权的搁架设计所带来的高通量能力。AP-1000 HTP系统优化了射频等离子体中活性离子的使用，增加了工艺均匀度，减少了操作时间。
　　在新的高通量设计中，所有的垂直电极都被接地。装衬底的仓盒(magazine)就是高通量搁架的组成部分，这样能够在仓盒两边都形成均匀的等离子体辉光放电，并增大高通量搁架上的直流偏压。增大的直流偏压增加了离子的能量，因而提高了等离子清洗的效率。AP-1000 HTP系统在低系统电压的情况下能够提供较高的直流偏压，这对于仓盒内的等离子工艺是很理想的。
　　AP-1000 HTP系统的工艺气体可以从氩，氢，氦等一系列气体中选择。它标准配置有四个流量控制器以最佳地控制气流量。等离子腔中可以垂直地放入多达12个仓盒，每个仓盒至少可以容纳20个引线架。
　　AP-1000 HTP系统是完全自给自足的，因而占地面积很小。泵、等离子腔、控制电路和13.56兆赫兹电源一起被安置在一个外壳中。前置存取的设计使得可以很方便地存取所有的内部元件 。等离子腔为了具有良好的耐用性,用11Gauge(3.05mm)厚的不锈钢制作，并采用铝支架。另外它的多个抽取式可调节搁架还能适应不同的搬运设备。
　　March Plasma Systems,  www.marchplasma.com .Booth #4174

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来源:半导体国际 作者: 时间:2005/2/17 0:00:00