eS31电子束晶片检测系统能够探测出小于50纳米的物理瑕疵及电压差异缺陷，它使芯片制造商能够在65纳米及以下制程中，满足工程分析及生产线监控所提出的高精度检测要求。该系统具有的精密的光学系统, 快速的数据处理速度以及可设定的瑕疵归类功能，使eS31的吞吐量达到其他电子束检测工具的6倍。eS31具备KLA-Tencor公司专利所有的μLoop ("MicroLoop")技术，它独特的电压差异测试结构可以尽早提供影响良率的各种重要电性问题，而使用以往的电信探针测试获取这些信息往往需要好几周的时间。搭载μLoop 技术的eS31系统能在一小时内完成对整个晶片全面积的检测，并且它的独特设计能够加快后段制程与前段制程的处理速度。eS31系统与KLA-Tencor公司的23xx亮区检验系统共用相同的检测平台，从而降低了仪器操作培训成本并提高了使用及设置的方便性。eS31系统还具有一套自动程序来简化电子束设置及仪器校准，使工程师们能够将更多的精力投入倒实验设计及工艺改进上。KLA-Tencor,
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