内容导读：

新一代Clean Track Lithius 涂布显影设备改进的设计使该系统单一单元产出提高到了150wph，它是适用于300mm/200mm， 45nm技术的涂布显影设备，设计时加入的3个新的设计理念，即提高工艺水平，缩短工艺周期和增强网络解决方案，如eDiagnostics和APC等。它同时具有更加精确控制的炉温设计，拓展了其应用于高端市场的能力。Tokyo Electron，www.tel.com . Booth #5423

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来源:半导体国际 作者: 时间:2005/1/26 0:00:00