AITFusion XUV 是最新一代的双重暗视野区光学检测设备，它综合了UV照明技术，实现了65纳米技术环境所要求的关键的灵敏度。新的UV 光学技术－在久经考验的AIT生产平台上整合了Adaptive ModeTM技术、多重独立图形收集系统、先进的检测算法以及其它新特性－确保了AITFusion XUV高速获取重要缺陷的能力，同时极大地减少了对损伤和前一层缺陷的检测。该设备特别适用于检测化学机械研磨（CMP）层、铜/低k以及多层膜堆栈。AITFusion XUV配备了改进的自动定位系统Auto-Positioning System (APS)，在实现行业内最低拥有成本（CoO）的同时，提供了更准确的对焦、跟踪性能以及芯片与芯片的注册（die-to-die registration）等。
KLA－Tencor,
www.kle-tencor.com
来源:半导体国际 作者: 时间:2004/9/27 0:00:00
