应用材料有限公司大量推出其ALPS等离子气相淀积镍技术，并声称在40nm线宽下它能使电阻率降低20%到50%。
Santa Clara,Calif.-based设备商说，ALPS镍工艺是设计用作先进的栅硅化物工艺的，在纵横比为2.5:1的亚100埃薄膜中，它的底部覆盖也能比50%还要好。应用材料说，因此,尽管这种技术消耗的硅只是常规硅化物工艺的一半，它还是能提供一个低漏电的界面。
"应用材料Endura ALPS镍系统把PVD很好的带到了65nm时代，并且超过了在关键晶体管应用中，客户对大量生产所需要的可靠性和灵活性的要求，"陈福深（音），应用材料公司铜，PVD和集成系统组的副总在一次声明中说。
ALPS镍系统可以用于200mm和300mm工艺，它既能装在Endura平台上也能装在最近推出的Endura2平台上。应用材料说，已经有多台应用材料的Endura ALPS镍系统运抵美国，台湾和日本的客户，其他系统计划在2004年底前运到美国，日本，中国大陆，台湾和东南亚的客户那里
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