据Reed Semiconductor网站报道，日本JEOL公司将加大电子束光刻设备的产量，提高至目前的2倍。

公司将会投资18亿日元（1600万美元）在东京Akishima建立新的无尘室，电子束光刻设备将会在新无尘室中进行生产。

新的无尘室将会在今年7月份破土动工，预期2007年5月投产。届时产量将会使目前每年30的产量翻番。

电子束光刻设备将会在无尘室中进行生产，这是一个相当精密的工艺过程。

JEOL表示由于半导体产业的扩张，半导体设备中正处于大量需求状态中。

另外公司也将扩大其电子掩膜光刻设备的产量。

相关链接（英文）：http://www.reed-electronics.com/semiconductor/articleXml/LN392055187.html