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英特尔今年底将投产50nm NAND Flash
内容导读:

据Digitimes网站报道,英特尔表示,将加快在2006年底正式导入50纳米投产NAND型Flash,且容量也会快速拉高,此外,为进一步使电脑使用效能快速提升,英特尔所推出的全新技术ROBSON,也预期在2007年初期正式推出。

英特尔在与美光共同成立IM以来,在NAND Flash市场上一直面临三星、海力士及日本东芝的强烈竞争。三星等国际NAND型Flash大厂目前均已采用90纳米量产NAND型Flash,且已将产品容量推至16Gb甚至32Gb,然回顾英特尔目前推 出的最高容量仅限于8Gb,对此,英特尔表示,目前投产工艺技术已到90纳米,且预期到2006年底前,将会正式采用50纳米投产NAND型Flash, 而这样的工艺技术事实上将足以让英特尔与三星、海力士、东芝等大厂一较高下。

此外,英特尔仍将继续发扬其在NOR型Flash方面的实力,走NOR与NAND并重的战略。而结合硬盘与Flash的 Robson科技,目前已将Flash封装进入模块中,预期到2007年初将可大量推出。

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来源:SEMI 作者: 时间:2006/8/1 0:00:00
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