2006年6月22日，NanoInk, Inc. 和精工仪器 (Seiko Instruments Inc) 旗下子公司精工电子纳米科技有限公司 (SII NanoTechnology Inc.，SIINT) 今天宣布，双方公司已就向光掩膜行业提供纳米级修复解决方案签署了一份独家授权协议。双方将在涉及改造 NanoInk 专有的 Dip Pen Nanolithography(TM)(DPN(R)) 技术的项目方面进行合作，该技术将与 SIINT 的光掩膜修复仪器和纳米加工平台实现整合。该协议的最终条款尚未公布。

光掩膜修复行业的挑战与现有方案所无法修复的较小缺陷有关。双方公司预计，随着计算机芯片节点尺寸缩小至 65nm 和 45nm，光掩膜修复行业所需要的能力只有凭借 NanoInk 的 DPN 所带来的新技术才能提供。

开发工作将在美洲的美国和日本进行。因为亚洲的光掩膜客户预计占65%，所以 NanoInk 相信，SIINT 是为这一要求苛刻的市场提供卓越的市场营销架构的最佳合作伙伴。

SIINT 的总裁兼首席执行官 Hiroyuki Funamoto 博士表示：”这一协议为 SIINT 提供了一次与在全球拥有稳定知识产权组合的美国顶级纳米科技公司密切合作的机会。凭借这一联合开发合作伙伴关系，SIINT 将在不久的将来为该市场带来创新的纳米级修复解决方案。”

NanoInk, Inc 首席执行官兼总裁 Cedric Loiret-Bernal 博士说道：”我非常高兴 SIINT 已决定与 NanoInk 合作，设计和生产一种能够整合修复能力的平台。我相信，该协议将使我们能够在提高光掩膜行业内修复水平的同时，向全球客户推出我们独一无二的 DPN 技术。”