据Reed网站报道，日本科学家Tadashi Komagata 开发出带电粒子束光刻系统，并已申请专利。此系统通过电子束或离子束用于掩模版或硅晶圆的直写光刻。
 
根据美国专利商标局的声称，当带电粒子束光刻系统的物镜焦点在写入区域内发生位置偏移时，物镜的放大图像将会大大改变。

而这项新的发明，物镜的焦点将会分别在X和Y方向发生偏移，系统将会对偏移量进行测量，并将结果存储起来。在光刻写入过程中，物镜的焦点将会根据存储器中记录的改变量而调整。图样的大小和位置通过形状和位置偏振仪来进行修正。

本专利已被日本东京的JEOL公司签下。

http://www.reed-electronics.com/semiconductor/articleXml/LN391312958.html