据Semiconductor Reporter网站报道，Mentor Graphics公司在3月6日的欧洲设计自动化与测试年会上推出了一系列DFM(Design for manufacturing）的EDA工具，并表示这套工具是基于对IC设计流程的反思。

这套命名为Calibre的“支持光刻的设计”（Litho Friendly Design, LFD）工具使得设计者可以自由选择受光刻影响最小的设计流程，Mentor公司表示。制造流程对器件性能的影响在90纳米节点上已经非常重要，而对于65纳米节点，更是极为关键的因素。

“提供大良率的设计方案是非常关键的，”AMD技术工程师Luigi Capodieci说。“在我们目前的流程中加入Calibre LFD工具后，我们可以在设计的最初阶段进行版图验证的选择，极大的降低了版图对于整个工艺流程的依赖性。”

“过去，保证工艺的重复稳定性一直是代工厂的职责，” Mentor公司副总裁兼硅设计部门总经理Joe Sawicki说，“现在有了Calibre LFD，设计者们也将对设计随工艺改变的程度产生很大影响。”

Mentor Graphics公司创立于1981年,总部位于Wilsonville, Oregon,全球员工总人数为3500人，是电子设计自动化技术的领导产商，它提供完整的软件和硬件设计解決方案，包括系统单芯片验证，硬件描述语言与FPGA设计，实体设计与分析，电路板与系统设计等。

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